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1.设备简介
本设备是一款小型电阻蒸发镀膜仪，主要特点是设备体积小，结构简单紧凑易于操作，也可整机放置于手套箱内，对实验室供电要求低；该系列设备主要部件采用进口或者国内最优的配置，从而提高设备的稳定性；另外自主开发的智能操作系统在设备的运行重复性及安全性方面得到更好地保障。
目前该设备配3组电阻蒸发源（可兼容金属与有机蒸发），一台2000W直流蒸发电源，主要用来开发纳米级单层及多层的金属导电膜、有机薄膜等。
2.主要技术参数
2.1 腔室尺寸：Ф246×228mm，1Cr18Ni9Ti优质不锈钢材质，氩弧焊接；
2.2 样品台尺寸：可拆卸式，尺寸60×60mm，旋转：0-20r/min可调；
2.3 真空系统：机械泵（TRP-12,3L/s）+Pfeiffer分子泵(Hipace80,67L/s)；GDC-25b电磁挡板阀；（标配是国产泵组，可选择进口产品）
2.4 极限真空：8.0×10-5Pa；
2.5 真空抽速：大气～8×10-4Pa ≤ 20min；
2.6 真空测量：全量程复合真空计，测量范围：105Pa～10-5Pa；
2.7 蒸发源：3组电阻蒸发源，3组间可切换，源间有防污板；
2.8 蒸发电源：直流蒸发电源1台，0 W～2000W连续可调，供3组蒸发源切换使用；
2.9控制方式：PLC+触摸屏智能控制系统，具备漏气自检与提示、通讯故障自检、保养维护提示等功能；
2.10设备外形：L53.5cm×W52cm×H75cm机电一体化机架，预留1个KF40和一个CF35法兰接口；
2.11 设备供电总功率≤2KW，220V，单相三线制（一火一零一地）；
2.12 冷却循环系统：水压0.2～0.4MPa，水温10～25℃，给设备相关需水冷部件提供稳定的制冷水；
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